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沈阳科仪高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500 真空室结构:方形前开门 真空室尺寸:p500x500x500mm 极限真空度:≤3.0E-5Pa 沉积源:永磁靶4套，2英寸 样品尺寸，温度:p4英寸，1片，最高800°C 占地面积(长x宽x高):约2米x1.7米x2米 电控描述:全自动 工艺:片内膜厚均匀性:≤3%

沈阳科仪高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450 真空室结构:圆筒形前开门 真空室尺寸:φ450x400mm 极限真空度:≤6.6E-6Pa 沉积源:永磁靶3套，2英寸，可以向上溅射或向下溅射。 样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，最高800C 占地面积(长x宽x高):约1米x1.8米x2米 电控描述:全自动 工艺:片内膜厚均匀性:≤3%